Fotovoltaico, nanotecnologie ed innovazione: nasce il Pulsed Plasma Deposition

Pare abbia avuto un’enorme successo all’Innovation Day svoltosi pochi giorni fa nella Silicon Valley, la capitale mondiale delle nuove tecnologie, lo start-up nato a Colle Val d’Elsa (Si) per la ricerca nel campo del fotovoltaico, il Siena Solar Nanotech, diretto da Gianpiero Tedeschi. L’Innovation Day era stato organizzato dall’associazione no-profit Mind the Bridge, da Booz&co e da Intesa Sanpaolo, ed era dedicata alle eccellenze nel campo dell’innovazione “Made in Italy” e alle nuove imprese interessate al mercato statunitense.

La Siena Solar pare abbia presentato la sua nuova tecnica di produzione di pannelli solari, capace di ridurre i costi, massimizzando la qualità. È stata chiamata PPD, Pulsed Plasma Deposition, e non è altro che l’uso di impulsi ultracorti di elettroni per la deposizione di film sottili fotovoltaici. Pare sia una tecnica innovativa, che mette a disposizione dell’industria del fotovoltaico a film sottile la competitività, un’ottima uniformità ed in grado di depositare dei film su qualsiasi materiale.

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